第422章 EUV难度更大

多，光源、物镜、工作台等等都是非常关键的环节点。”何融明说：

    “老板，要不这样，让在座的企业负责人介绍一下？术业有专攻，他们更专业，也更容易解释清楚。”

    “行。”常乐点头。

    于是，启尔电机负责人先发言：

    “常总，何总，我先说说吧。”

    “好。”

    “首先感谢常总、何总这些年，对启尔电机的关心和支持，没有SmEE的资金支持和帮助，启尔电机不可能走到上市前夜。”

    “什么时候上市？”常乐问。

    “12月。”

    “那我们之前买的那些股票要值钱了。”

    “哈哈……”

    短暂笑过，启尔电机负责人开始正式介绍情况：

    “启尔电机主要为duvArFi光刻提供浸没系统。”

    “通过浸没系统和光的折线效应，实现了193纳米到134纳米的等效波长，Arf光刻推进到Arfi光刻才成为可能。”

    浸没系统，就是将镜片与硅片之间的空间，浸入特殊液体中。

    由于液体折射率大于1，能够使193纳米波长光源缩短至134纳米，从而实现更高分辨率。

    也顺带，将光刻工艺节点从45纳米推进到14纳米、10纳米。

    “但是……”该负责人话锋一转：

    “同样的方法，157纳米波光光源叠加浸入技术后，无法降低波长。”

    “所以，进入EUV阶段，就需要更为复杂的技术和手段来实现极紫外光源。”

    启尔电机负责人介绍完，科益虹源企业负责人接着说：

    “对，进入EUV研发阶段，目前的主流方法，是用准分子激光器照射锡球靶材，获取极紫外光源。”

    “要做到这一步，需要时间，难度不小。”

    难度有多大？

    非常大。

    要产生13.5纳米波长的极紫外光源，需要用高功率准分子激发器，以每秒5万次的频率，不断击中一个正在高速运动中的小锡球。

    让小锡球温度上升至50万度，变成等离子体，从而产生极紫外光。

    这个小锡球大小为三千万之一米，运动速度为321公里\/小时。

    “目前，能够提供这种激光器的公司，全球只有一家，德国的通快公司。”

    “但是通快公司也不能独立提供，需要北美cymer公司合作和技术授权。”

    “此外，还需要立陶宛一家公司提供关键器材。这家立陶宛公司背后又是北美技术授权……”

    “所以，在技术方面，我们得不到任何借鉴和支持，还是需要想办法绕开专利限制，慢慢探索。”

    光源只是关键困难之一。

    国望光学负责人接着说：

    “我们负责物镜系统研发，但是，同样需要时间来探索和积累。”

    Euv物镜需要理论上的绝对平滑、平整。

    镜片起伏只允许一个原子的误差。

    这是理论物理的极限。

    通俗讲，就是把镜片放大到鲁省大小。

    一个病毒落在镜片上，就像拔地而起的高山。

    国望光学负责人说完，华卓精科负责人自信说道：

    “我们公司负责工作台，正在集中攻坚，应该在不久的将来，可以达成既定目标要求。”

    工作台是干什么的？

    相当于刻刀。

    在指甲盖大小的硅片上，刻画出几百亿个晶体管。

    这需要极高精度。

    当然，全球也没有任何一个国家能够独立制造。

    需要日、韩、北美、德国等诸多国家的专利支持和技术协同。